تجهیزات پوششدهی WCC800 فرآیند رسوبگذاری پاششی
منبع یون
- پلاسمای پرانرژی برای تمیز کردن سطوح
- حکاکی در سطح اتمی بدون تأثیر بر زبری سطح؛
- نگهداری آسان
طراحی میدان مغناطیسی نامتعادل برای استفاده بالا از هدف؛
- نوع پوشش: Cr، WC/C، TiAlN و غیره
- نوع پوشش: کروم، WC/C، TiAlN و غیره
- ارائه کیفیت پوشش بهتر
- تنش فیلم کمتر
| مدل | WCC800 |
|---|---|
| فناوری | ۱DCMS+3HiPIMS |
| نوع پوشش | کروم، توالت فرنگی/سی، تیآلان و غیره |
| اچینگ | تنظیم |
| تعداد کاتدها | ۴ |
| اندازه (طول/ارتفاع: میلیمتر) | ۳۷۵۰ × ۱۸۰۰ × ۲۵۰۰ |
| حجم محفظه (متر مکعب) | ۰.۸ |
| حجم پوشش (میلیمتر) | Φ650 × 400 |
| ظرفیت بارگیری (درختان) | ۸/یا به درخواست مشتری |
| حداکثر بارگیری (کیلوگرم) | ۳۵۰ |
| قطر اسپیندل (میلیمتر) | Φ170 |
| زمان پردازش (ساعت) | ۴ تا ۵ |





