Leave Your Message

تجهیزات پوشش‌دهی WCC800 فرآیند رسوب‌گذاری پاششی

تجهیزات پوشش‌دهی Huasheng WCC800 از فرآیند رسوب‌دهی مگنترون اسپاترینگ DC+HiPIMS استفاده می‌کند که قادر به تهیه پوشش‌های مختلف مانند WC و TiAlN با چسبندگی قوی و عملکرد پایدار و قابل اعتماد است. این دستگاه دارای قابلیت انطباق‌پذیری بارگذاری فوق‌العاده‌ای است که به طور دقیق الزامات پوشش‌دهی را برای قطعات با اندازه کوچک، چندمنظوره و با شکل خاص برآورده می‌کند. با طراحی ساختار مدولار که عملیات، نگهداری و مدیریت را تسهیل می‌کند، همراه با یک سیستم کنترل دما و فشار دقیق، کیفیت پوشش ثابتی را تضمین می‌کند. این دستگاه که مجهز به اجزای اصلی با کیفیت بالا و پیکربندی اتوماسیون کامل است، به طور پایدار و کارآمد عمل می‌کند و با سناریوهای مختلف کاربرد پوشش‌دهی سازگار است.

چند منظوره: دستگاه پوشش عمومی قطعات + ابزار

رسوب‌گذاری کندوپاش، بدون لایه‌برداری فیلم.

عملکرد ساده، سازگار با قطعات پیچیده و متنوع

    ویژگی های دستگاه پوشش خلاء PVD

    منبع یون
    • پلاسمای پرانرژی برای تمیز کردن سطوح
    • حکاکی در سطح اتمی بدون تأثیر بر زبری سطح؛
    • نگهداری آسان
    طراحی میدان مغناطیسی نامتعادل برای استفاده بالا از هدف؛
    • نوع پوشش: Cr، WC/C، TiAlN و غیره
    • نوع پوشش: کروم، WC/C، TiAlN و غیره
    • ارائه کیفیت پوشش بهتر
    • تنش فیلم کمتر

    پارامترهای تجهیزات فلزکاری خلاء

    مدل WCC800
    فناوری ۱DCMS+3HiPIMS
    نوع پوشش کروم، توالت فرنگی/سی، تی‌آل‌ان و غیره
    اچینگ تنظیم
    تعداد کاتدها ۴
    اندازه (طول/ارتفاع: میلی‌متر) ۳۷۵۰ × ۱۸۰۰ × ۲۵۰۰
    حجم محفظه (متر مکعب) ۰.۸
    حجم پوشش (میلی‌متر) Φ650 × 400
    ظرفیت بارگیری (درختان) ۸/یا به درخواست مشتری
    حداکثر بارگیری (کیلوگرم) ۳۵۰
    قطر اسپیندل (میلی‌متر) Φ170
    زمان پردازش (ساعت) ۴ تا ۵

    چیدمان تجهیزات WCC800

    چیدمان تجهیزات WCC800

    عملکرد و کاربردهای پوشش

    عملکرد و کاربردهای پوشش-3

    عملکرد و کاربردهای پوشش-1عملکرد و کاربردهای پوشش-2
    عملکرد و کاربردهای پوشش-4